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韩媒嘲讽长鑫HBM3良率仅25%:4个里3个是废品!拿什么追SK海力士

驱动之家·2026/9/10 02:26:00🔗 原文

📋总体概括

据韩国《朝鲜日报》报道,中国最大DRAM厂商长鑫存储已启动第四代高带宽内存HBM3试产,但初期良率仅25%,远低于行业公认的80%量产黄金线,而SK海力士自2022年量产同类产品良率已超90%。韩媒将瓶颈归咎于TSV硅通孔技术:长鑫单芯片TSV约3000个,低于三星HBM2的5000个和SK海力士HBM3的8000个。报道承认长鑫普通DRAM工艺无大问题,但认为TSV积累需要时间,韩企已有4至5年领先优势。

关键信息

  • 长鑫存储HBM3已启动试产,初期良率仅25%,约为80%量产黄金良率的三分之一
  • SK海力士自2022年起量产同类HBM3产品,良率已超90%,形成明显代差
  • 瓶颈被指向TSV硅通孔技术:数千个微米级孔位一旦偏移或填充不完整即整层报废
  • TSV密度对比:长鑫约3000个,三星HBM2超5000个,SK海力士HBM3超8000个
  • 报道承认长鑫G4工艺普通DRAM本身无大问题,短板集中在堆叠封装环节

🔥犀利点评

韩媒这波嘲讽半真半假:25%良率是试产初期数据,拿它对比量产两年多、良率90%的海力士,本来就不是同一起跑线。但也不必护短——TSV是典型的时间堆出来的know-how工艺,密度差距摆在那里,长鑫短板真实存在。真正该看的是追赶斜率:DRAM后发玩家一旦良率爬坡开启,速度往往超预期。HBM3本是上一代产品,长鑫若能在一年内把良率拉上60%,这场戏才刚开场。

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